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芯光学院-集成电路先进光刻技术与版图设计优化名家讲堂

类别:路线规划 日期:2018-9-16 23:52:13 人气: 来源:

  香港吉野门芯光学院,是先导院成立的培训业务品牌,面向全国微电子和光电行业领域进行人才培养,致力于为国家核心技术行业提供源源不断的人才储备。我们的目标,是打造西北地区实训,让更多进入这个行业的新人能够在培训中提升实操技能。我们拥有近200名国内外专家智库团队,与国内外专业平台联合办学,充分有效了解行业最新技术,提升行业认知,可以为提供精准和专业的,打通职场晋升之路。

  讯石光通讯网、光纤在线、芯师爷、芯司机、芯通社、芯智讯、芯片超人、半导体行业观察、半导体行业联盟、光刻人的世界、IC咖啡、芯榜、半导体圈、中国半导体论坛、EETOP、矽说等。

  第八批“千人计划”入选者,中国科学院微电子研究所研究员,博士生导师;1998年毕业于Stuttgart大学/马普固体研究所,获博士学位,师从诺贝尔物理获得者Klaus von Klitzing;先后在美国能源部橡树岭国家实验室、美国英飞凌公司纽约研发中心、美罗方德公司纽约研发中心工作;由于在193nm浸没式光刻技术上的开创性贡献,于2009年受SPIE邀请出版专著“Advanced processes for 193nmimmersion lithography”,该书已被美国多所高校和研究机构作为研究生的教材和主要参考书;发表了70篇的专业文献并持有多项美国专利。

  韦亚一博士长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发,先后参与或主持了从180nm一直到10nm节点的光刻工艺研发,具有丰富的先进光刻研发经验,取得了多项核心技术。

  2013年7月回国工作,首先作为项目首席科学家主持了国家02重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备和光刻工艺研发”(沈阳芯源微电子设备有限公司);在中科院微电子所建立了计算光刻课题组,从事20nm以下技术节点的光源-掩模协同优化(SMO)和光学邻近效应修正(OPC)研究;韦亚一的研究被广泛应用于国内FinFET和3D NAND的量产工艺中;2016年7月在科学出版社出版了“超大规模集成电路的先进光刻理论与应用”一书;2017年3月计算光刻课题组升格为计算光刻研发中心,并被市授予中关村实验室,韦亚一博士任中心和实验室主任。

  报名方式1.请使用微信扫描下方二维码,在线.邮件报名报名回执表下载链:填写报名回执表并发送Word电子版至“芯动力”人才计划邮箱:回执表文件名及邮件标题格式为:“报名+第77期+单位名称+人数。”

  1. 注册费:3800元(2天)注:费用含授课费、场地费、资料费、活动期间餐饮,不含交通、住宿等费用(自理)。在线报名请选择“普通注册”通道2. 芯动力合作单位、中科创星投资服务企业:3300元在线报名请选择“合作单位注册”通道

  国信芯世纪南京信息科技有限公司为本期名家讲堂开具,内容为培训费。请于2018年10月10日前将注册费汇至以下账户,并在汇款备注中注明款项信息(第77期+单位+参会人姓名)。

  文章由325棋牌提供发布

关键词:电路设计教材
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